Продукция
Super User
Molykote D-708
О ПРОДУКТЕ
Цена : 198560 руб за 18 кг
Рабочие температуры : -180,+240 С
Антифрикционное покрытие на основе ПТФЭ с эпоксидным связующим, отверждаемое при нагреве.
- Снижение и стабилизация коэффициента закручивания резьбовых соединений, защита их деталей от коррозии и приданием им эстетичного внешнего вида
- Болты, шайбы, пружины, детали механизмов петель и замков, ремней безопасности в автомобилях
- Направляющие пластины колодок дисковых тормозных механизмов
- Детали узлов трения оргтехники, приборов и точных механизмов
По вопросам заказа продукции обращайтесь к менеджерам компании , контакты для связи : т. 8-977-775-09-91, 8-977-418-83-42 ,эл. Почта : konkord189@mail.ru
Molykote D-3484
О ПРОДУКТЕ
Антифрикционное покрытие на основе дисульфида молибдена и графита с фенольным связующим, отверждаемое при нагреве.
ПРИМЕНЕНИЕ
- Тяжело нагруженные узлы трения скольжения, подверженные воздействию нагрева, влаги и пыли - там, где неэффективны масла и пластичные смазки
- Узлы трения защитных выключателей в электросетях
- Узлы трения подъемно-транспортных машин: пружины карбюраторов, соединительные муфты, зубчатые передачи, детали механизмов ремней безопасности и замков кузова, шарниры и резьбовые соединения
Рабочие температуры : -70 ,+250 С
Цена : 55210 руб за ведро 5 кг , также доступна фасовка 0,5 кг , по цене 6320 рублей
По вопросам заказа продукции обращайтесь к менеджерам компании , контакты для связи : т. 8-977-775-09-91, 8-977-418-83-42 ,эл. Почта : konkord189@mail.ru
Molykote D-321R
О ПРОДУКТЕ
Антифрикционное покрытие на основе дисульфида молибдена и графита с титанатовым связующим, отверждаемое при нормальной температуре.
- Подшипники скольжения, направляющие скольжения , ходовые винты и шлицевые соединения в конвейерных системах, дерево- и металлообрабатывающих станках, турбинах
- Ходовые винты и подшипники скольжения трубопроводной арматуры
- Зубчатые зацепления полиграфического оборудования
- Цепные передачи конвейеров печей и подъемно-транспортных машин
- Узлы трения скольжения в автомобилях: направляющие, петли и шарниры, замки , дроссельная заслонка, шлицевые и резьбовые соединения
- При холодной экструзии стали для защиты от образования задиров
- Поверхности скольжения стяжных муфт и регулирующих клиньев
Цена : 2300 руб. за 400 мл
По вопросам заказа продукции обращайтесь к менеджерам компании , контакты для связи : т. 8-977-775-09-91, 8-977-418-83-42 ,эл. Почта : konkord189@mail.ru
Molykote D-21
О ПРОДУКТЕ
Антифрикционное покрытие на основе особо чистых дисульфида молибдена и графита с титанатовым связующим, отверждаемое при нормальной температуре.
Это то же самое покрытие, что Molykote D-321R, только с более чистыми сухими смазками: содержание галогенов (хлор и фтор) в растворе не превышает 200 ppm.
- Подшипники скольжения, направляющие скольжения, ходовые винты и шлицевые соединения в конвейерных системах, дерево- и металлообрабатывающих станках, турбинах
- Ходовые винты и подшипники скольжения трубопроводной арматуры
- Зубчатые зацепления полиграфического оборудования
- Цепные передачи конвейеров печей и подъемно-транспортных машин
- Узлы трения скольжения в автомобилях: направляющие, петли и шарниры, замки, резьбовые и шлицевые соединения, дроссельная заслонка
- При холодной экструзии стали для защиты от образования задиров
- Поверхности скольжения стяжных муфт
Наносится и сушится так же, как и Molykote D-321R.
Цена : 59960 руб .за ведро 5 кг
Доступные фасовки 1 кг и 400 мл
По вопросам заказа продукции обращайтесь к менеджерам компании , контакты для связи : т. 8-977-775-09-91, 8-977-418-83-42 ,эл. Почта : konkord189@mail.ru
ФОТОРЕЗИСТ ФН-16У-7
ООО «КОНКОРД» предлагает приобрести ФОТОРЕЗИСТЫ НЕГАТИВНЫЕ ФН-16У-7
ТУ 2378-086-05784466-2016
Эта серия фоторезистов является аналогом AZ nLOF 2020, AZ nLOF 2035 и AZ nLOF 2070 фирмы MicroChemicals. Фоторезисты серии ФН-16У предназначены для использования в качестве защитного светочувствительного материала в прецезионных фотолитографических процессах при изготовлении полупроводниковых приборов и интегральных схем, а также для процессов физического напыления (PVD) и Lift-off процессов («взрывной» литографии). Экологически безопасны. Возможен выпуск любой модификации, обеспечивающей толщину пленок от 0,5 до 7,5 мкм. Фоторезисты серии ФН-16У чувствительны к i-лини (365 нм). Для проявления рекомендуется использовать безметальный проявитель ПП-051МС на основе 2,38%-ного водного раствора тетраметиламмония гидроксида.
| Наименование показателя | Норма для ФН-16У-2 | Норма для ФН-16У-4 | Норма для ФН-16У-7 |
|---|---|---|---|
| Внешний вид | Вязкая прозрачная жидкость светло-коричневого цвета | ||
| Разрешающая способность пленки фоторезиста, мкм, не хуже | 5 | 8 | 10 |
| Доза экспонирования, мДж/см2 не более | 100 | 120 | 150 |
| Массовая доля сухого остатка, % | 34±2 | 45±2 | 50±2 |
| Толщина пленки фоторезиста, мкм | 1,8-2,2 | 3,5-4,5 | 5,8-7,5 |
Реализация от 1 кг
Цена : 49531 руб.за кг
По вопросам заказа продукции обращайтесь к менеджерам компании , контакты для связи : т. 8-977-775-09-91, 8-977-418-83-42 ,эл. Почта : konkord189@mail.ru
ФОТОРЕЗИСТ ФН-16У-4
ООО «КОНКОРД» предлагает приобрести ФОТОРЕЗИСТЫ НЕГАТИВНЫЕ ФН-16У-4
ТУ 2378-086-05784466-2016
Эта серия фоторезистов является аналогом AZ nLOF 2020, AZ nLOF 2035 и AZ nLOF 2070 фирмы MicroChemicals. Фоторезисты серии ФН-16У предназначены для использования в качестве защитного светочувствительного материала в прецезионных фотолитографических процессах при изготовлении полупроводниковых приборов и интегральных схем, а также для процессов физического напыления (PVD) и Lift-off процессов («взрывной» литографии). Экологически безопасны. Возможен выпуск любой модификации, обеспечивающей толщину пленок от 0,5 до 7,5 мкм. Фоторезисты серии ФН-16У чувствительны к i-лини (365 нм). Для проявления рекомендуется использовать безметальный проявитель ПП-051МС на основе 2,38%-ного водного раствора тетраметиламмония гидроксида.
| Наименование показателя | Норма для ФН-16У-2 | Норма для ФН-16У-4 | Норма для ФН-16У-7 |
|---|---|---|---|
| Внешний вид | Вязкая прозрачная жидкость светло-коричневого цвета | ||
| Разрешающая способность пленки фоторезиста, мкм, не хуже | 5 | 8 | 10 |
| Доза экспонирования, мДж/см2 не более | 100 | 120 | 150 |
| Массовая доля сухого остатка, % | 34±2 | 45±2 | 50±2 |
| Толщина пленки фоторезиста, мкм | 1,8-2,2 | 3,5-4,5 | 5,8-7,5 |
Фасовка : 1 кг
По вопросам заказа продукции обращайтесь к менеджерам компании , контакты для связи : т. 8-977-775-09-91, 8-977-418-83-42 ,эл. Почта : konkord189@mail.ru
ФОТОРЕЗИСТ ФН-16У-2
ООО «КОНКОРД» предлагает приобрести ФОТОРЕЗИСТЫ НЕГАТИВНЫЕ ФН-16У-2
ТУ 2378-086-05784466-2016
Эта серия фоторезистов является аналогом AZ nLOF 2020, AZ nLOF 2035 и AZ nLOF 2070 фирмы MicroChemicals. Фоторезисты серии ФН-16У предназначены для использования в качестве защитного светочувствительного материала в прецезионных фотолитографических процессах при изготовлении полупроводниковых приборов и интегральных схем, а также для процессов физического напыления (PVD) и Lift-off процессов («взрывной» литографии). Экологически безопасны. Возможен выпуск любой модификации, обеспечивающей толщину пленок от 0,5 до 7,5 мкм. Фоторезисты серии ФН-16У чувствительны к i-лини (365 нм). Для проявления рекомендуется использовать безметальный проявитель ПП-051МС на основе 2,38%-ного водного раствора тетраметиламмония гидроксида.
| Наименование показателя | Норма для ФН-16У-2 | Норма для ФН-16У-4 | Норма для ФН-16У-7 |
|---|---|---|---|
| Внешний вид | Вязкая прозрачная жидкость светло-коричневого цвета | ||
| Разрешающая способность пленки фоторезиста, мкм, не хуже | 5 | 8 | 10 |
| Доза экспонирования, мДж/см2 не более | 100 | 120 | 150 |
| Массовая доля сухого остатка, % | 34±2 | 45±2 | 50±2 |
| Толщина пленки фоторезиста, мкм | 1,8-2,2 | 3,5-4,5 | 5,8-7,5 |
Фасовка : 1 кг
По вопросам заказа продукции обращайтесь к менеджерам компании , контакты для связи : т. 8-977-775-09-91, 8-977-418-83-42 ,эл. Почта : konkord189@mail.ru
ФОТОРЕЗИСТ ФН-16У
ООО «КОНКОРД» предлагает приобрести ФОТОРЕЗИСТЫ НЕГАТИВНЫЕ ФН-16У
ТУ 2378-086-05784466-2016
Эта серия фоторезистов является аналогом AZ nLOF 2020, AZ nLOF 2035 и AZ nLOF 2070 фирмы MicroChemicals. Фоторезисты серии ФН-16У предназначены для использования в качестве защитного светочувствительного материала в прецезионных фотолитографических процессах при изготовлении полупроводниковых приборов и интегральных схем, а также для процессов физического напыления (PVD) и Lift-off процессов («взрывной» литографии). Экологически безопасны. Возможен выпуск любой модификации, обеспечивающей толщину пленок от 0,5 до 7,5 мкм. Фоторезисты серии ФН-16У чувствительны к i-лини (365 нм). Для проявления рекомендуется использовать безметальный проявитель ПП-051МС на основе 2,38%-ного водного раствора тетраметиламмония гидроксида.
| Наименование показателя | Норма для ФН-16У-2 | Норма для ФН-16У-4 | Норма для ФН-16У-7 |
|---|---|---|---|
| Внешний вид | Вязкая прозрачная жидкость светло-коричневого цвета | ||
| Разрешающая способность пленки фоторезиста, мкм, не хуже | 5 | 8 | 10 |
| Доза экспонирования, мДж/см2 не более | 100 | 120 | 150 |
| Массовая доля сухого остатка, % | 34±2 | 45±2 | 50±2 |
| Толщина пленки фоторезиста, мкм | 1,8-2,2 | 3,5-4,5 | 5,8-7,5 |
Фасовка : 1 кг .
Цена : 37223 руб./кг
По вопросам заказа продукции обращайтесь к менеджерам компании , контакты для связи : т. 8-977-775-09-91, 8-977-418-83-42 ,эл. Почта : konkord189@mail.ru
ФОТОРЕЗИСТ ФН-11СК
ООО «КОНКОРД» предлагает приобрести ФОТОРЕЗИСТЫ НЕГАТИВНЫЕ ФН-11СК
ТУ 2378-025-05784466-2004
Предназначены для использования в фотолитографических процессах в производстве интегральных схем, масок, гибких выводных рамок на основе фольгированных диэлектриков типа ФДИ, печатных микроплат, форм и других изделий с использованием кислых и щелочных травителей металлов и сплавов, а также для гальванического осаждения металлов (меди, стали, хрома и других). Обеспечивают формирование пленки методом окунания, центрифугирования или валковым методом. Фоторезисты серии ФН-11 являются аналогами по применению фоторезистов ФН-11Сн и ФН-11СКн. Возможен выпуск любой модификации, обеспечивающей толщину пленок от 1 до 3,5 мкм.
Рекомендуемый проявитель - уайт-спирит.
Срок гарантийного хранения фоторезистов ФН-11С и ФН-11С-К увеличен с 6 до 12 месяцев.
В связи с расширением сырьевой базы для производства фоторезиста марки ФН-11С-К внесены изменения в ТУ 2378-025-05784466-2004 «ФОТОРЕЗИСТЫ НЕГАТИВНЫЕ ФН-11С и ФН-11С-К». Интервал показателя «Массовая доля сухого остатка» для ФН-11С-К увеличен с «28 – 32» до «26 – 34» (извещение № 5784466-2/1600-2018 об изменении технических условий ТУ 2378-025-05784466-2004 «ФОТОРЕЗИСТЫ НЕГАТИВНЫЕ ФН-11С и ФН-11С-К». Дата введения: 01 ноября 2018 г)
| Наименование показателя | Норма для ФН-11С | Норма для ФН-11С-К |
|---|---|---|
| Внешний вид | Вязкая жидкость коричневого цвета | |
| Кинематическая вязкость,мм2/с | 14 - 19 | 14 – 19* |
| Массовая доля сухого остатка, % | 13-17 | 26-34 |
| Разрешающая способность пленки фоторезиста, мкм | 10 | 10* |
| Внешний вид пленки фоторезиста | Прозрачная, блестящая, без разрывов | |
| Норма показателя для фоторезиста ФН-11С-К, разбавленного ксилолом в объемном соотношении 1:1. | ||
РЕКОМЕНДАЦИИ ПО ПРИМЕНЕНИЮ ФН-11С И ФН-11С-К
| Наименование операции | Режимы проведения операции |
|---|---|
| Предварительная подготовка поверхности подложки | Очистка поверхности подложки от механических и химических загрязнений |
| Нанесение фоторезиста: - способ центрифугирования - способ регулируемого вытягивания |
Частота вращения ротора центрифуги 900-1100 мин1. Длительность вращения 30-60 с. Скорость вытягивания 180-250 мм/мин. |
| Сушка пленки фоторезиста: - конвекционные термошкафы - установка ИК-сушки |
Температура 80-95 °С, длительность 20-40 мин. 1 зона 60-80 °С, II зона 80-100 °С, длительность 3-10 мин. |
| Экспонирование пленки фоторезиста актиничным излучением (источник излучения – лампы ДРШ, ПРК, ЛУФ и др.)* | Освещенность в области экспонирования 20000-50000 люкс (интенсивность излучения 12 мвт/см2. Длительность экспонирования пленки толщиной 1,0-1,5 мкм – 5-20 с. |
| Проявление скрытого изображения: обработка в двух последовательных ваннах с уайт-спиритом - 1 ванна уайт-спирита - 2 ванна уайт-спирита - 3 ополаскивание в ванне с изопропиловым спиртом |
1 мин 45 с 15 с 30-60 с |
| Термообработка проявленного рельефа: - конвекционные термошкафы - установки ИК-сушки |
Температура 120-180 °С. Длительность 30-60 мин Температура 130-150 °С. Длительность 6-10 мин |
| Удаление фоторезиста **: | |
| - обработка подложек с пленкой в ванне со смывающим раствором «Форсан» | Температура раствора 120-125 °С, длительность обработки 5-15 мин |
| - промывка подложки в органических растворителях (уайт-спирит, ксилол, толуол и др.) не менее, чем в 2-х ваннах | 20-60 с |
| - водная промывка | 20-60 с |
| - сушка от следов влаги | 20-60 с |
* * Указанные режимы проведения фотолитографического процесса являются ориентировочными и могут быть откорректированы в зависимости от технологического оборудования предприятия-потребителя и технических требований, предъявляемых к защитной маске.
** Для удаления фоторезистов могут быть использованы толуол, ксилол, трихлорэтилен, уксусная кислота, неорганические кислоты.
При использовании фоторезиста ФН-11С-К рекомендуется разбавления выпускной формы фоторезиста ксилолом (ГОСТ 9410-78); степень разбавления определяется требованиями технологического процесса изготовления изделий. После разбавления фоторезиста раствор следует выдержать при перемешивании в течение 2-4 мин и отфильтровать.
Реализация от 1 кг
Цена : 48596 руб.за кг
По вопросам заказа продукции обращайтесь к менеджерам компании , контакты для связи : т. 8-977-775-09-91, 8-977-418-83-42 ,эл. Почта : konkord189@mail.ru
ФОТОРЕЗИСТ ФН-11С
ООО «КОНКОРД» предлагает приобрести ФОТОРЕЗИСТЫ НЕГАТИВНЫЕ ФН-11С
ТУ 2378-025-05784466-2004
Предназначены для использования в фотолитографических процессах в производстве интегральных схем, масок, гибких выводных рамок на основе фольгированных диэлектриков типа ФДИ, печатных микроплат, форм и других изделий с использованием кислых и щелочных травителей металлов и сплавов, а также для гальванического осаждения металлов (меди, стали, хрома и других). Обеспечивают формирование пленки методом окунания, центрифугирования или валковым методом. Фоторезисты серии ФН-11 являются аналогами по применению фоторезистов ФН-11Сн и ФН-11СКн. Возможен выпуск любой модификации, обеспечивающей толщину пленок от 1 до 3,5 мкм.
Рекомендуемый проявитель - уайт-спирит.
Срок гарантийного хранения фоторезистов ФН-11С и ФН-11С-К увеличен с 6 до 12 месяцев.
В связи с расширением сырьевой базы для производства фоторезиста марки ФН-11С-К внесены изменения в ТУ 2378-025-05784466-2004 «ФОТОРЕЗИСТЫ НЕГАТИВНЫЕ ФН-11С и ФН-11С-К». Интервал показателя «Массовая доля сухого остатка» для ФН-11С-К увеличен с «28 – 32» до «26 – 34» (извещение № 5784466-2/1600-2018 об изменении технических условий ТУ 2378-025-05784466-2004 «ФОТОРЕЗИСТЫ НЕГАТИВНЫЕ ФН-11С и ФН-11С-К». Дата введения: 01 ноября 2018 г)
| Наименование показателя | Норма для ФН-11С | Норма для ФН-11С-К |
|---|---|---|
| Внешний вид | Вязкая жидкость коричневого цвета | |
| Кинематическая вязкость,мм2/с | 14 - 19 | 14 – 19* |
| Массовая доля сухого остатка, % | 13-17 | 26-34 |
| Разрешающая способность пленки фоторезиста, мкм | 10 | 10* |
| Внешний вид пленки фоторезиста | Прозрачная, блестящая, без разрывов | |
| Норма показателя для фоторезиста ФН-11С-К, разбавленного ксилолом в объемном соотношении 1:1. | ||
РЕКОМЕНДАЦИИ ПО ПРИМЕНЕНИЮ ФН-11С И ФН-11С-К
| Наименование операции | Режимы проведения операции |
|---|---|
| Предварительная подготовка поверхности подложки | Очистка поверхности подложки от механических и химических загрязнений |
| Нанесение фоторезиста: - способ центрифугирования - способ регулируемого вытягивания |
Частота вращения ротора центрифуги 900-1100 мин1. Длительность вращения 30-60 с. Скорость вытягивания 180-250 мм/мин. |
| Сушка пленки фоторезиста: - конвекционные термошкафы - установка ИК-сушки |
Температура 80-95 °С, длительность 20-40 мин. 1 зона 60-80 °С, II зона 80-100 °С, длительность 3-10 мин. |
| Экспонирование пленки фоторезиста актиничным излучением (источник излучения – лампы ДРШ, ПРК, ЛУФ и др.)* | Освещенность в области экспонирования 20000-50000 люкс (интенсивность излучения 12 мвт/см2. Длительность экспонирования пленки толщиной 1,0-1,5 мкм – 5-20 с. |
| Проявление скрытого изображения: обработка в двух последовательных ваннах с уайт-спиритом - 1 ванна уайт-спирита - 2 ванна уайт-спирита - 3 ополаскивание в ванне с изопропиловым спиртом |
1 мин 45 с 15 с 30-60 с |
| Термообработка проявленного рельефа: - конвекционные термошкафы - установки ИК-сушки |
Температура 120-180 °С. Длительность 30-60 мин Температура 130-150 °С. Длительность 6-10 мин |
| Удаление фоторезиста **: | |
| - обработка подложек с пленкой в ванне со смывающим раствором «Форсан» | Температура раствора 120-125 °С, длительность обработки 5-15 мин |
| - промывка подложки в органических растворителях (уайт-спирит, ксилол, толуол и др.) не менее, чем в 2-х ваннах | 20-60 с |
| - водная промывка | 20-60 с |
| - сушка от следов влаги | 20-60 с |
* * Указанные режимы проведения фотолитографического процесса являются ориентировочными и могут быть откорректированы в зависимости от технологического оборудования предприятия-потребителя и технических требований, предъявляемых к защитной маске.
** Для удаления фоторезистов могут быть использованы толуол, ксилол, трихлорэтилен, уксусная кислота, неорганические кислоты.
При использовании фоторезиста ФН-11С-К рекомендуется разбавления выпускной формы фоторезиста ксилолом (ГОСТ 9410-78); степень разбавления определяется требованиями технологического процесса изготовления изделий. После разбавления фоторезиста раствор следует выдержать при перемешивании в течение 2-4 мин и отфильтровать.
Реализация от 1 кг
Цена : 48962 руб.за кг
По вопросам заказа продукции обращайтесь к менеджерам компании , контакты для связи : т. 8-977-775-09-91, 8-977-418-83-42 ,эл. Почта : konkord189@mail.ru